Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama kaip sutelktas srautas ant paviršiaus.
Ar tai būtų viengubas purkštuvas taškiniam paruošimui, daugiapurkštuviai platesniam taikymui ar keli plazmos moduliai didesniems substratams - ši technologija gali patenkinti kiekvieno kliento poreikius.
Norint sukurti specialias funkcinės grupes polimerų paviršiuje, galima naudoti įvairius procesinius dujas.
Galia: 200 W vienam purkštuvui
Kanalai: 1-2
Procesinė dujos: oras, deguonis, argonas, azotas
Potencialas: beveik be
Transformatorius: vidinis ir išorinis
EDC technologija: integruota
NDC2 technologija: integruojama
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir kaip sutelktas srautas išpučiama į paviršių naudojant suspaustą orą.
Ar t...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir kaip sutelktas srautas išpučiama į paviršių naudojant suspaustą orą.
Ar t...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama į paviršių kaip sutelktas srautas.
Ar...
Iškrovimas T-SPOT vyksta klasikinėje konstrukcijoje tarp centriškai išdėstytos elektrodos ir kaip priešelektrodas veikiančios purkštuko.
Dėl purkštuk...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama į paviršių kaip sutelktas srautas.
Ar...
Potencialo neturintis plazma generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kurių metu priešingas lankas veikia kaip priešelektrodas. Ši...
Iškrovimas T-SPOT vyksta klasikinėje konstrukcijoje tarp centriškai išdėstytos elektrodos ir kaip priešelektrodas veikiančios purkštuko.
Dėl purkštuk...
Potencialo neturintis plazma yra generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kur vienas lankas tuo pačiu metu veikia kaip priešelektr...
Potencialo neturintis plazma generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kur vienas lankas tuo pačiu metu veikia kaip priešpriešinė e...
Koronos iškrova generuojama galvos viduje tarp dviejų elektrodų ir per oro srautą nukreipiama į paviršių.
Ar tai būtų vienas galvutė gydymo plotams nu...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir kaip sutelktas srautas išpučiama į paviršių naudojant suspaustą orą.
Ar t...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir kaip sutelktas srautas išpučiama į paviršių naudojant suspaustą orą.
Ar t...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama į paviršių kaip sutelktas srautas.
Ar...
Iškrovimas T-SPOT vyksta klasikinėje konstrukcijoje tarp centriškai išdėstytos elektrodos ir kaip priešelektrodas veikiančios purkštuko.
Dėl purkštuk...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama į paviršių kaip sutelktas srautas.
Ar...
Potencialo neturintis plazma generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kurių metu priešingas lankas veikia kaip priešelektrodas. Ši...
Iškrovimas T-SPOT vyksta klasikinėje konstrukcijoje tarp centriškai išdėstytos elektrodos ir kaip priešelektrodas veikiančios purkštuko.
Dėl purkštuk...
Potencialo neturintis plazma yra generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kur vienas lankas tuo pačiu metu veikia kaip priešelektr...
Potencialo neturintis plazma generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kur vienas lankas tuo pačiu metu veikia kaip priešpriešinė e...
Koronos iškrova generuojama galvos viduje tarp dviejų elektrodų ir per oro srautą nukreipiama į paviršių.
Ar tai būtų vienas galvutė gydymo plotams nu...