Potencialo neturintis plazma yra generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kur vienas lankas tuo pačiu metu veikia kaip priešelektrodas. Šiuo metodu minimalizuojamas nusidėvėjimo poveikis plazmos formavimuisi.
Ar tai būtų vienas purkštuvas, skirtas apdorojimo plotams nuo 20 iki 40 mm per galvutę, ar keli purkštuvai šalia vienas kito platesniam taikymui - ši galinga technologija gali pasiūlyti sprendimą kiekvienai energiją reikalaujančiai paruošimo procedūrai. Generatorius gali maitinti maksimaliai 2 purkštuvų galvutes.
Taip pat čia specialios funkcinės grupės gali būti įterpiamos į polimero paviršių naudojant skirtingus proceso dujas.
Galia: 600 W arba 1000 W per purkštuvą
Kanalai: 1-2
Proceso dujos: oras, deguonis, argonas, azotas
Potencialo neturintis: beveik
Transformatorius: išorinis
Potencialo neturintis plazma generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kurių metu priešingas lankas veikia kaip priešelektrodas. Ši...
Potencialo neturintis plazma generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kur vienas lankas tuo pačiu metu veikia kaip priešpriešinė e...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama į paviršių kaip sutelktas srautas.
Ar...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama į paviršių kaip sutelktas srautas.
Ar...
Iškrovimas T-SPOT vyksta klasikinėje konstrukcijoje tarp centriškai išdėstytos elektrodos ir kaip priešelektrodas veikiančios purkštuko.
Dėl purkštuk...
Iškrovimas T-SPOT vyksta klasikinėje konstrukcijoje tarp centriškai išdėstytos elektrodos ir kaip priešelektrodas veikiančios purkštuko.
Dėl purkštuk...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir kaip sutelktas srautas išpučiama į paviršių naudojant suspaustą orą.
Ar t...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir kaip sutelktas srautas išpučiama į paviršių naudojant suspaustą orą.
Ar t...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama kaip sutelktas srautas ant paviršiaus...
Koronos iškrova generuojama galvos viduje tarp dviejų elektrodų ir per oro srautą nukreipiama į paviršių.
Ar tai būtų vienas galvutė gydymo plotams nu...
Potencialo neturintis plazma generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kurių metu priešingas lankas veikia kaip priešelektrodas. Ši...
Potencialo neturintis plazma generuojamas CAT technologijoje naudojant du šviesos lankus, kur vienas lankas tuo pačiu metu veikia kaip priešpriešinė e...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama į paviršių kaip sutelktas srautas.
Ar...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama į paviršių kaip sutelktas srautas.
Ar...
Iškrovimas T-SPOT vyksta klasikinėje konstrukcijoje tarp centriškai išdėstytos elektrodos ir kaip priešelektrodas veikiančios purkštuko.
Dėl purkštuk...
Iškrovimas T-SPOT vyksta klasikinėje konstrukcijoje tarp centriškai išdėstytos elektrodos ir kaip priešelektrodas veikiančios purkštuko.
Dėl purkštuk...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir kaip sutelktas srautas išpučiama į paviršių naudojant suspaustą orą.
Ar t...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir kaip sutelktas srautas išpučiama į paviršių naudojant suspaustą orą.
Ar t...
Plazma MEF technologijoje generuojama elektriškai ribojamo iškrovimo būdu ir, naudojant suspaustą orą, išpučiama kaip sutelktas srautas ant paviršiaus...
Koronos iškrova generuojama galvos viduje tarp dviejų elektrodų ir per oro srautą nukreipiama į paviršių.
Ar tai būtų vienas galvutė gydymo plotams nu...