Plazminis Paviršiaus Apdorojimas | Nano - Žemo Slėgio Plazminio Paviršiaus Apdorojimo Sistema, Plazminis Valymas

Diener electronic plazmos įrenginiai jau seniai tapo svarbiais įvairiose pramonės šakose. Pasirinkdami Nano žemos slėgio plazmos įrenginį, investuojate į modernią ir ilgalaikę šalto vakuumo plazmos technologiją. Šio plazmos sistemos 18–24 litrų talpos kamera suteikia pakankamai vietos laboratorijoms ir serijinei gamybai. Žemos slėgio plazmos apdorojimas yra patikrinta technika, skirta kontroliuojamam smulkiam valymui, sukibimo gerinimui (aktyvavimui ir graviravimui) bei plonų sluoksnių dengimui ant substrato paviršių. Plazma generuojama naudojant aukštos dažnio įtampą vakuuminėje kameroje. Į ją įvedamas apdorojimo dujos yra jonizuojamos. Taikymas: - Be COV organinių likučių valymas. - Aktyvavimas prieš lakavimą, klijavimą, kapsuliavimą, ... - PTFE, fotorezistinių lakų, oksido sluoksnių graviravimas, ... Išmatavimai (stalo įrenginys): 560 mm x 600 - 860 mm x 600 mm (PxHxG) Išmatavimai (stovo įrenginys): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (PxHxG) Vakuuminė kamera (medžiaga): Nerūdijantis plienas, Aliuminis, Kvarcinis stiklas, Borosilikatinis stiklas Vakuuminė kamera (išmatavimai): apie L 240 mm x H 240 mm x P 400 - 420 mm, Ø 267 mm, P 400 - 420 mm Vakuuminė kamera (talpa): apie 18 - 24 litrai Vakuuminė kamera (uždarymas): dangtis, durys su vyriukais Dujų tiekimas: adatiniai vožtuvai / Masės srauto matuokliai (Mass-Flow-Controller (MFCs)) Slėgio matavimas: Pirani, Talpinis manometras (koroziniams dujoms) Generatoriai: 100 kHz; 80 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Elektrodai: Vienas arba keli lygiai Valdymo sistemos: Pusiau automatinė, Sukamoji rankenėlė, Pagrindinis PC, Pilnas PC Įtampos tiekimas: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuuminės siurbliai: Siurbimo galia: 16 m³/h