Plazmos Paviršiaus Apdorojimo Sistema | Pico - Žemo Slėgio Plazmos Sistema, Plazmos Paviršiaus Apdorojimo Sistema, Plazmos Valytuvas

Diener electronic plazmos įrenginiai jau seniai įsitvirtino įvairiose pramonės šakose. Su žemo slėgio plazmos įrenginiu Pico pasirinksite modernią ir ateities poreikiams pritaikytą šaltos plazmos technologiją vakuume. Šio plazmos sistemos kamerų tūris nuo 5 iki 8 litrų suteikia pakankamai vietos laboratoriniams ir serijiniams gamybos procesams. Plazmos apdorojimas žemo slėgio plazmoje yra patikrinta technika, skirta kontroliuojamam smulkiam valymui, adhezijos gerinimui (aktyvavimui ir etchingui) bei plonų sluoksnių dengimui ant substrato paviršių. Plazma generuojama naudojant aukšto dažnio įtampą vakuumo kameroje. Procesų dujos, įvedamos į kamerą, yra jonizuojamos. Taikymo sritys: - VOC neturintis organinių likučių valymas - Aktyvavimas prieš dažymą, klijavimą, liejimą, … - PTFE, fotodengimo, oksidų sluoksnių etchingas, … - Superhidrofobinės ir superhidrofilinės dangos Išmatavimai (stalo įrenginys): 310 - 560 mm x 330 - 860 mm x 420 - 600 mm (PxHxG) Išmatavimai (stovintis įrenginys): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (PxHxG) Vakuumo kameros medžiaga: nerūdijantis plienas, aliuminis, kvarcinis stiklas (UHP), borosilikatinis stiklas (HP) Vakuumo kameros išmatavimai: apie B 160 mm x H 160 mm x T 200 - 300 mm; Ø 130 mm, T 200 - 320 mm Vakuumo kameros tūris: apie 5 - 8 litrai Vakuumo kameros uždarymas: dangtis, durys su vyriu Dujų tiekimas: adatiniai vožtuvai arba masės srauto reguliatoriai (MFC) Generatorius: 40 kHz; 100 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Slėgio matavimas: Pirani, talpiniai manometrai Elektrodai: pagal kliento pageidavimus Valdymas: pusiau automatinis, sukamoji rankenėlė, pagrindinis PC (Win. CE), pilnas PC (Win. 10 IoT) Įtampų tiekimas: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuumo siurblys: siurbimo galia min. 6 m³/h